PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统

利用宽幅氩离子束对样品进行抛光和镀膜处理,从而得到高质量的SEM 成像和分析结果。

优点 研究热点 媒体库 出版物 资源 回到顶部
优点: 

全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品,可以得到无损的表面、横截面和镀层,以保护样品或克服非导电样品的荷电问题。

  • 只需一次抽真空,就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜
  • 在低至 100 伏的电压下刻蚀,从而快速地得到无损样品表面 
  • 可制备直径高达 32 毫米的样品
  • 在不暴露于空气的情况下,将样品从 PECS™ II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中(可选)
  • 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph® 软件存储和分析图像,数字光学成像
  • 集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数

Publications

Journal of Materials Science
2016

Mas, F.; Tassin, C.; Valle, N.; Robaut, F.; Charlot, F.; Yescas, M.; Roch, F.; Todeschini, P.; Bréchet, Y.

Macromolecular Rapid Communications
2015

Kovačič, S.; Mazaj, M.; Ješelnik, M.; Pahovnik, D.; Žagar, E.; Slugovc, C.; Logar, N. Z.

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