PIPS IIシステム

精密なセンタリング、制御、再現性を実現する高精度イオン研磨システム

メリット 研究の着目点 メディアライブラリ パブリケーション リソース トップに戻る
メリット: 
  • X、Yステージにより、試料上の加工領域とアルゴンビームの位置合わせが可能
  • 光学系の改善によって100 Vの低電圧でも使用でき、素早くFIB試料のダメージ層除去が可能
  • DigitalMicrograph®ソフトウェアの画像保存および分析機能を使用したデジタル光学イメージングが可能
  • 10インチのカラータッチスクリーンを使用して、すべてのPIPS™ IIパラメータを表示および制御

Publications

Journal of Nuclear Materials
2015

Aitkaliyeva, A.; Madden, J. W.; Miller, B. D.; Cole, J. I.; Gan, J.

CrystEngComm
2016

Bansen, R.; Ehlers, C.; Teubner, T.; Markurt, T.; Schmidtbauer, J.; Boeck, T.

Journal of Physics D: Applied Physics
2016

Wegele, T.; Beyer, A.; Ludewig, P.; Rosenow, P.; Duschek, L.; Jandieri, K.; Tonner, R.; Stolz, W.; Volz, K.

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