加熱その場観察用ホルダー
微細構造の相変化、核生成、成長、および溶解の各過程を直接観察できるシングルおよびダブルチルト加熱ホルダー

メリット
微細構造の相変化、核生成、成長、および溶解の各過程を直接観察できるシングルおよびダブルチルト加熱ホルダー
大型の加熱炉と水冷式の試料ホルダー軸を採用し、試料ホルダー先端部の温度を精密に制御
特殊なセラミック製の加熱炉支持体を使用し、加熱炉から試料ホルダー先端部への熱損失を抑制
| Gatanモデル番号 | 最高 温度1 (°C) | 加熱炉 | 試料傾斜 | 試料固定方法 | 最大電気フィードスルー数 |
|---|---|---|---|---|---|
| 628 | 1300 | タンタル | α軸傾斜 | Hexring® メカニズム | 6 |
| 628 | 900 | インコネル | α軸傾斜 | Hexring メカニズム | 6 |
| 652 | 1000 | タンタル | α、β軸傾斜 | Hexring メカニズム | 2 – 62 |
| 652 | 850 | インコネル | α、β軸傾斜 | Hexring メカニズム | 2 – 62 |
1狭いポールピースギャップの場合、628の最高温度はタンタル製加熱炉で1000 °C、インコネル製加熱炉で700 °Cに、また652の最高温度はタンタル製加熱炉で900 °C、インコネル製加熱炉で700 °Cに制限されます。
2JEOL UHRの場合はオプションで2~6の選択が可能、その他の電子顕微鏡の場合は最大で2。
データシート
用途
Gatanで電子顕微鏡の真価を解き放ちましょう。最先端のアプロケーション事例を探求し、エキスパートが講師を務めるウェビナーに参加し、科学の飛躍的な進歩を後押しする詳細なアプリケーションノートを通じて新たな知見を得てください。
メディアライブラリ
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リソース
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サービスプラン
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ソフトウェア
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