
DigitalMicrographソフトウェアの新機能
DigitalMicrograph 3.62の4D STEM、EELS、スペクトルイメージングにおける強力な新ツールを探索してください。

STEMx OIM
DigitalMicrographで4D STEMデータから方位および相マップを直接解析可能な、使いやすいワークフローを備えた新機能 – 複雑なスクリプトによる解析は不要です。

カスタムスキャンニング
- • EELS、4D STEM、またはその他のスペクトルイメージング実験で使用するための複数の新しいスキャンパターンを解放し、さらにスクリプトを使用した独自のカスタムスキャンパターンを作成することもできます。
- • 非ラスタースキャンパターンに加えて、新しいスパースデータ取得制御を使用して、線量分割測定またはin-situスペクトルイメージング実験における試料ダメージを減少させるのに役立ちます。

サーベイマッピング
- リアルタイムの結果を取得するには、ライブEELS厚さマッピング、ライブ仮想絞りイメージング、ライブ微分位相コントラストイメージング、またはスクリプトによるカスタマイズされた画像処理を使用します。
- • リアルタイムEELSおよび4D STEM分析を使用して、in-situ実験において、通常のスペクトルイメージングよりもデータボリュームを小さく抑えます。
リソース
ダウンロード
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コンピュータ推奨仕様
ソフトウェアの最適なパフォーマンスのためのシステム要件とハードウェアガイドラインを表示
EELS.info
EELSの知見を深める—ステップバイステップの実験ガイドから、ダウンロード可能なスペクトルを備えたインタラクティブなアトラスまで。
EMアカデミー
セルフペースのコースを通じて実践的な経験を積み、電子顕微鏡技術を向上させましょう
問題およびバグの報告
ソフトウェアの問題やバグを開発チームに直接送信してレビューを依頼してください
スクリプト
ワークフローを効率化するための自動化および分析スクリプトをダウンロード
ソフトウェア開発キット
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CLとは何ですか?
カソードルミネッセンスの旅を向上させる—実験ガイドから応用の深い洞察まで
STEMx画像の謝辞: Niナノプレートレット試料はFelipe Quiroga-Suavita(LPCNO - INSA ToulouseおよびSMS - UNSW Sydney、EU MSCA-AUFRANDE)によって作製されました。