
Argon ion polishing of focused ion beam specimens in PIPS II system
November 6, 2015
精密なセンタリング、制御、再現性を実現する高精度イオン研磨システム

本製品は、透過型電子顕微鏡(TEM)用試料作製装置として20年以上業界標準となっているPIPSイオンミリングシステムの基本性能と操作性を飛躍的に向上させた製品です。
X、Yステージにより、試料上の加工領域とアルゴンビームの位置合わせが可能
光学系の改善によって100 Vの低電圧でも使用でき、素早くFIB試料のダメージ層除去が可能
DigitalMicrograph®ソフトウェアの画像保存および分析機能を使用したデジタル光学イメージングが可能
10インチのカラータッチスクリーンを使用して、すべてのPIPS™ IIパラメータを表示および制御
Gatanで電子顕微鏡の真価を解き放ちましょう。最先端のアプロケーション事例を探求し、エキスパートが講師を務めるウェビナーに参加し、科学の飛躍的な進歩を後押しする詳細なアプリケーションノートを通じて新たな知見を得てください。
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