加熱その場観察用ホルダー

微細構造の相変化、核生成、成長、および溶解の各過程を直接観察できるシングルおよびダブルチルト加熱ホルダー

メリット 研究の着目点 メディアライブラリ パブリケーション リソース トップに戻る
メリット: 

加熱その場観察用ホルダー – DENSsolutions1との提携により提供

  • 昇温時における究極の試料安定性を実現
  • 試料の精密な温度制御をMEMSマイクロヒーターと真の四端子法の閉ループ制御システムを採用し実現
DENSsolutionsモデル番号 最高
温度(°C)
試料ドリフト(nm/分、800 °C時) 発熱体、温度制御 試料傾斜 最大電気フィードスルー
Wildfire

800 (ST)
1300 (XT)

<0.5

MEMS STおよびXT
4ポイントの閉ループ

α、β軸傾斜

Lightning
(加熱および電気)

800 (加熱 + バイアス)
1300 (加熱)

<0.5

α、β軸傾斜

4
Climate
(加熱およびガス雰囲気)
800

<4

α軸傾斜

 

Wildfireモデル

Wildfire S3 – FEI Wildfire S5 – FEI Wildfire D6 – FEI Wildfire S3 – JEOL Wildfire D6 – JEOL

±30° α軸傾斜

±70° α軸傾斜

±25° αおよびβ軸傾斜

±20° α軸傾斜

±15° αおよびβ軸傾斜

ST、XT、T、BioT UT、ST、XT、T、BioT ST、XT、T、BioT HRP、 HTP、 CRP、 HCP UHP、HRP、HTP、CRP、HCP

 

Wildfire Nano-Chip

Nano-Chip ST (RT - 800 °C)   Nano-Chip XT (RT - 1300 °C)

ウインドウの材料:

窒化ケイ素(ウインドウ厚さ: 30 nm)

ウインドウの材料:

窒化ケイ素(ウインドウ厚さ: 20 nm)
炭素(ウインドウ厚さ: 5 nm)
スルーホール

 

バルク加熱ホルダー

  • 大型の加熱炉と水冷式の試料ホルダー軸を採用し、試料ホルダー先端部の温度を精密に制御
  • 特殊なセラミック製の加熱炉支持体を使用し、加熱炉から試料ホルダー先端部への熱損失を抑制
Gatanモデル番号 最高
温度2 (°C)
加熱炉 試料傾斜 試料固定方法 最大電気フィードスルー数
628 1300

タンタル

α軸傾斜 Hexring®
メカニズム
6
628 900 インコネル α軸傾斜 Hexring
メカニズム
6
652 1000 タンタル α、β軸傾斜 Hexring
メカニズム
2 – 63
652 850 インコネル α、β軸傾斜 Hexring
メカニズム
2 – 63
1DENSsolutionsとの販売提携により、米国、日本、カナダ、インドでのみ入手可能
2狭いポールピースギャップの場合、628の最高温度はタンタル製加熱炉で1000 °C、インコネル製加熱炉で700°Cに、また652の最高温度はタンタル製加熱炉で900°C、インコネル製加熱炉で700°Cに制限されます。
3JEOL UHRの場合はオプションで2~6の選択が可能、その他の電子顕微鏡の場合は最大で2。

Publications

Materials Research Bulletin
2016

Liu, C.; Wu, S.; Zheng, H.; Cao, F.; Sheng, H.; Zhao, D.; Wang, J.

Applied Catalysis B: Environmental
2016

Kameya, Y.; Hayashi, T.; Motosuke, M.

Applied Catalysis B Environmental
2016

Motosuke, M.

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