经由Solarus II 系统清洗后,非晶化的表面损伤和交联产物得以清除。处理方式:氢气与氧气;时长:5 分钟;样品:半导体器件;SEM图像。
减小硅样品的表面损伤,并维持样品完好
使用Solarus II 进行等离子清洗后,样品表面的非晶损伤层显著减少,同时维持了样品的完整性。处理方式:氢气与氧气;时长:5分钟;样品:硅,110方向;TEM图像:TF20。
Easily manage a large list of tasks
When single-particle screening with Latitude S, only schedule a few tasks to get feedback quickly or schedule the microscope to image every marked area.