Clearly and precisely prepare, visualize, and analyze samples to generate sub-nanometer resolution EELS and EDS maps to elucidate composition, microstructure, and atomic structure of materials and defects.
Read more...
Streamline your metal and alloy workflow from preparation to examination of grain size, orientation, or structural components to capture flaws and imperfections early so you can develop solutions to improve production efficiency.
Read more...
Tai, C. L.; Chiu, Y. N.; Chen, C. J.; Lin, S. K.; Lin, H. C.; Misra, R. D. K.; Yang, Y. L.; Hsiao, C. N.; Tsao, C. S.; Chung, T. F.
Sakakibara, M.; Hanaya, M.; Nakamuro, T.; Nakamura, E.
Gemperline, P. T.; Thind, A. S.; Tang, C.; Sterbinsky, G. E.; Kiefer, B.; Jin, W.; Klie, R. F.; Comes, R. B.
Zheng, F.; Kiselev, N. S.; Rybakov, F. N.; Yang, L.; Shi, W.; Blügel, S.; Dunin-Borkowski, R. E.
Kanomi, S.; Marubayashi, H.; Miyata, T.; Jinnai, H.
Yang, T.; Xua, H.; Zoua, X.
Lai, Y. H.; Zheng, J. D.; Lu, S. C.; Wang, Y. K.; Duan, C. G.; Yu, P.; Zheng, Y. Z.; Huang, R.; Chang, L.; Chu, M. W.; Hsu, J. H.; Chu, Y. H.
Persson, A. R.; Papamichail, A.; Darakchieva, V.
Sun, J.; Ding, D.; Liu, W.; Wu, W.; Liu, H.; Wei, G.; Liu, H.
Shang, T.; Xiao, D.; Meng, F.; Rong, X.; Gao, A.; Lin, T.; Tang, Z.; Liu, X.; Li, X.; Zhang, Q.; Wen, Y.; Xiao, R.; Wang, X.; Su, D.; Hu, Y. S.; Li, H.; Yu, Q.; Zhang, Z.; Petricek, V.; Wu, L.; Gu, L.; Zuo, J. M.; Zhu, Y.; Nan. C. W.; Zhu. J.
Xi, R.; Jiang, H.; Li, G.; Zhang, Z.; Zhao, G.; Vanmeensel, K.; Kustov, S.; Humbeeck. J. V.; Wang. X.
Wu, S.; Kou, Z.; Lai, Q.; Lan, S.; Katnagallu, S. S.; Hahn, H.; Taheriniya, S.; Wilde, G.; Gleiter, H.; Feng, T.
Vanacore, G. M.;Chrastina, D.; Scalise, E.; Barbisan, L.; Ballabio, A.; Mauceri, M.; Via, F. L.; Capitani, G.; Crippa, D.; Marzegalli, A.; Bergamaschini. R.; Miglio. L.
Pakzad, A.; dos Reis. R. D.
Crozier, P. A.
Radić, D.; Peterlechner, M.; Posselt, M.; Bracht, H.
Zanetta, P. -M.
Elgvin, C.; Kjeldby, S. B.; Both, K. G.; Nguyen, P. D.; Prytz, Ø.
Minor, A.; Mills, S.; Zeltmann, S.; Ercius, P.; Kohnert, A.; Uberuaga, B.
Abe, Y.; Satoh, Y.; Hashimoto, N.
Leong, Z.; Huang, Y.; Wróbel, J. S.; Gao, J.; Morley, N.; Goodall, R.
Liu, F.; Hu, W. -X.; Yang, Z. -H.; Wang, W.; He, W.
Sui, Y. -D.; Jiang, Y. -H.; Wang, Q. -D.
Cai, Y.; Xiang, S.; Tan, Y.
Murthy, A. A.; Das, P. M.; Ribet, S. M.; Kopas, C.; Lee, J.; Reagor, M. J.; Zhou, L.; Kramer, M. J.; Hersam, M. C.; Checchin, M.; Grassellino, A.; dos Reis, R.; Dravid, V. P.; Romanenko, A.
Senga, R.; Lin, Y. -C.; Morishita, S.; Kato, R.; Yamada, T.; Hasegawa, M.; Suenaga, K.
Mozgawa, B.; Sobańska, K.; Grybo, J.; Pietrzy, P.
Donohue, J.; Zeltmann, S. E.; Bustillo, K. C.; Savitzky, B.; Jones, M. A.; Meyers, G.; Ophus, C.; Minor, A. M.
Munshi, J.; Rakowski, A.; Savitzky, B. H.; Zeltmann, S. E.; Ciston, J.; Henderson, M.; Cholia, S.; Minor, A. M.; Chan, M. K. Y.; Ophus, C.
Wei, Y.; Zhao, X.; Liu, Z.; Tan, C.
Chen, C.; Sun, M.; Cheng, Z.; Liang, Y.
Angell, D. K.; Bourgeois, B.; Vadai, M.; Dionne, J. A.
Shang, Y.; Liu, Z.; Dong, J.; Yao, M.; Yang, Z.; Li, Q.; Zhai, C.; Shen, F.; Hou, X.; Wang, L.; Zhang, N.; Zhang, W.; Fu, R.; Ji, J.; Zhang, X.; Lin, H.; Fei, Y.; Sundqvist, B.; Wang, W.; Liu, B.
Tang, H.; Yuan, X.; Cheng, Y.; Fei, H.; Liu, F.; Liang, T.; Zeng, Z.; Ishii, T.; Wang, M. -S.; Katsura, T.; Sheng, H.; Gou, H.
Synthesis and characterisation of cerium sulphide over optical fiber and its gas sensing application
Theoderaj, A. K. C.; Jacob, I. D.; Chitra, J. M.
Kobayashia, S.; Howe, J. M.; MitsuhiroMurayama, M.
Singha, R.; Yuan, F.; Cheng, G.; Salters, T. H.; Oey, Y. M.; Villalpando, G. V.; Jovanovic, M.; Yao, N.; Schoop, L. M.
Ophus, C.; Zeltmann, S. E.; Bruefach, A.; Rakowski, A.; Savitzky, B. H.; Minor, A. M.; Scott, M. C.
Susarla, S.; García-Fernández, P.; Ophus, C.; Das, S.; Aguado-Puente, P.; McCarter, M.; Ercius, P.; Martin, L. W.; Ramesh, R. Junquera, J.
Murthy, A. A.; Ribet, S. M.; Stanev, T. K.; Liu, P.; Watanabe, K.; Taniguchi, T.; Stern, N. P.; dos Reis, R.; Dravid, V. P.
Zhao, J.; Xu, H.; Lebrette, H.; Carroni, M.; Taberman, H.; Hogbom, M.; Zou, X.
Cao, B. X.; Kong, H. J.; Ding, Z. Y.; Wu, S. W.; Luan, J. H.; Jiao, Z. B.; Lu, J.; Liu, C. T.; Yang, T.
Kanomi, S.; Marubayashi, H.; Miyata, T.; Tsuda, K.; Jinnai, H.
Lin, Z.; Wu, C.; He, H.; Jiang, S.; Ren, F.; Cao, L.; Huang, Z.; Zhang, J.
Bu, Y.; Wu, Y.; Lei, Z.; Yuan, X.; Wu, H.; Feng, X.; Liu, J.; Ding, J.; Lu, Y.; Wang, H.; Lu, Z.; Yang, W.
Biffi, C. A.; Bassani, P.; Fiocchi, J.; Albu, M.; Tuissi, A.
Londoño-Calderon, A.; Williams, D. J.; Schneider, M. M.; Savitzky, B. H.; Ophus, C.; Ma, S.; Zhud, H.; Pettes, M. T.
Wang, H.; Yu, Z.; Kong, X.; Huang, W.; Zhang, Z.; Mackanic, D. G.; Huang, X.; Qin, J.; Bao, Z.; Cui. Y.
Liu, B.; Zhao, G.; Zhang, X.; Guo, J.; Gong, S.; Xie, G.; Peng, L.; Li, Z.
Mir, A. H.; Hyatt, N. C.; Donnelly, S. E.
Wang, W.; Blawert, C.; Zan, R.; Sun, Y.; Peng, H.; Ni, J.; Han, P.; Suo, T.; Song, Y.; Zhang, S.; Zheludkevich, M. L.; Zhang, X.
Ng, S.; Zazpe, R.; Rodriguez-Pereira, H.; Michalička, J.; Macak, J. M.; Pumera, M.
Censabella, M.; Irrera, D.; Boscarino, S.; Piccitto, G.; Grimaldi, M. G.; Ruffino, F.
Li, R.; Yamashita, S.; Kita, H.
Kazmierczak, N. P.; Van Winkle, M.; Ophus, C.; Bustillo, K. C.; Carr, S.; Brown, H. G.; Ciston, J.; Taniguchi, T.; Watanabe, K,; Bediako, D. K.
Rymer, L. -M.; Winter, L.; Hockauf, K.; Lampke, T.
Karre, R.; Hua, Y.; Song, S.; Wang, X.; Joardar, J.; Reddy, K. M.
Tomita, A.; Miki, T.; Tai, Y.
Koenig, T. R.; Rao, Z.; Chason, E.; Tucker, G. J.; Thompson, G. B.
Xie, H.; Zhao, X.; Jiang, J.; Bai, J.; Li, S.; Pan, H.; Pang, X.; Li, H.; Ren, Y.; Qin, G.
Pofelski, A.; Whabi, V.; Ghanad-Tavakoli, S.; Botton, G.
Krause, F. F.; Schowalter, M.; Oppermann, O.; Marquardt, D.; Müller-Caspary, K.; Ritz, R.; Simson, M.; Ryll, H.; Huth, M.; Soltau, H.; Rosenauer, A.
Baron, C.; Werner, H.; Springer, H.
Boyle, D. T.; Huang, W.; Wang, H.; Li, Y.; Chen, H.; Yu, Z.; Zhang, W.; Bao, Z.; Cui, Y.
Emmrich, D.; Wolff, A.; Meyerbröker, N.; Lindner, J. K. N.; Beyer, A.; Gölzhäuser, A.
Farabi, E.; Sharp, J. A.; Vahid, A.; Fabijanic, D. M.; Barnett, M. R.; Gallo, S. C.
Chen, W.; Ding, D.; Zhang, W.; Xiao, D.
Wang, W.; Erofeev, I.; Nandi, P.; Yan, H.; Mirsaidov, U.
Londoño-Calderon, A.; J. Williams, D. J.; Schneider, M.; Savitzky, B. H.; Ophus, C.; Pettes, M. T.
Castano, I.; Evans, A. M.; dos Reis, R,; Dravid, V. P.; Gianneschi, N. C.; Dichtel, W. R.
Reboul, C. F.; Heo, J.; Machello, C.; Kiesewetter, S.; Kim, B. H.; Kim, S.; Elmlund, D.; Ercius, P.; Park, J.; Elmlund, H.
Pan, Z.; Zhou, Q.; Wang, P.; Diao, D.
Nakamuro, T.; Sakakibara, M.; Nada, H.; Harano, K.;Nakamura, E.
Marchello, G.; De Pace, C.; Acosta-Gutierrez, S.; Lopez-Vazquez, C.; Wilkinson, N.; Gervasio, F. L.; Ruiz-Perez, L.; Giuseppe Battaglia, G.
Quarez, E.; Gautron, E.; Paris, M.; Gajan, D.; Mevellec, J. -Y.
Mathur, N.; Yasin, F. S.; Stolt, M. J.; Nagai, T.; Kimoto, K.; Du, H.; Tian, M.; Tokura, Y.; Yu, X.; Jin, S.
Sulym, I.; Wiśniewska, M.; Storozhuk, L.; Terpilowski, K.; Sternik, D.; Borysenko, M.; Derylo-Marczewska, A.
Murthy, A. A.; Stanev, T. K.; Ribet, S. M.; Liu, P.; Watanabe, K.; Taniguchi, T.; Stern, N. P.; dos Reis, R.; Dravid, V. P.
Balch, H. B., Evans, A. M., Dasari, R. R., Li, H., Li, R., Thomas, S., Wang, Q., Bisbey, R. P., Slicker, K., Castano, I., Xun, S., Jiang, L., Zhu, C., Gianneschi, N., Ralph, D. C., Brédas, J-L., Marder, S. R., Dichtel, W. R., Wang, F.
Abfaltere, A.; Shamsi, J.; Kubicki, D. J.; Savory, C. N.; Xiao, J.; Divitini, G.; Li, W.; Macpherson, S.; Gałkowski, K.; MacManus-Driscoll, J. L.; Scanlon, D. O.; Stranks, S. D.
Li, H. -K.; de Souza, J. P.; Zhang, Z.; Martis, J.; Sendgikoski, K.; Cumings, J.; Bazant, M. Z.; Majumdar, A.
Shen, T. -H.; Spillane, L.; Vavra, J.; Pham, T. H. M.; Peng, J.; Shao-Horn, Y.; Tileli, V.
Kim, Y. -J.; Lee, Y.; Kim, K.; Kwon, O. -H.
Park, S.; Siahrostami, S.; Park, J.; Mostaghimi, A. H. B.; Kim, T. R.; Vallez, L.; Gill, T. M.; Park, W.; Goodson, K. E.; Sinclair, R.; Zheng, X.
Shimizu, T.; Lungerich, D.; Stuckner, J.; Murayama, M.; Harano, K.; Nakamura, E.
Londoño-Calderon, A.; Williams, D. J.; Ophus, C.; Pettes, M. T.
Murthy, A. A.; Stanev, T. K.; dos Reis, R.; Hao, S.; Wolverton, C.; Stern, N. P.; Dravid, V. P.
Yu, L.; Hudak, B. M.; Ullah, A.; Thomas, M. P.; Porter, C. C.; Thisera, A.; Pham, R. H.; Goonatilleke, M. D. A.; Guiton, B. S.
Ogata, A. F.; Rakowski, A. M.; Carpenter, B. P.; Fishman, D. A.; Merham, J. G.; Hurst, P. J.; Patterson, J. P.
Addiego, C.; Gao, W.; Pan, X.
Errokh, A.; Magnin, A.; Putaux, J. -L.; Boufi, S.
Nam, K. W.; Park, S. S.; dos Reis, R.; Dravid, V. P. Kim, H.; Mirkin, C. A.; Stoddart, J. F.
Gao, W.; Addiego, C.; Wang, H,; Yan, X.; Hou, Y.; Ji, D.; Heikes, C.; Zhang, Y.; Li, L.; Huyan, H.; Blum, T.; Aoki, T.; Nie, Y.; Schlom, D.; Wu, R.; Pan, X.
Ogawa, Y.
Fang, C.; Li, J.; Zhang, M.; Zhang, Y.; Yang, F.; Lee, J. Z.; Lee, L. M. -H.; Alvarado, J.; Schroeder, M. A.; Yang, Y.; Lu, B.; Williams, N.; Ceja, M.; Yang, L.; Cai, M.; Gu, J.; Xu, K.; Wang, X.; Meng, Y. S.
Wang, H.; Liu, Z.; Liu, H.; Guan, L.; Cao, X.; Zhang, Z.; Huang, Y.; Jin, C.
Su, T.; Hood, Z. D.; Naguib, M.; Bai, L.; Luo, S.; Rouleau, C. M.; Ivanov, I. N.; Ji, H.; Qin, Z.; Wu, Z.
Zhang, Y.; Tunes, M. A.; Crespillo, M. L.; Zhang, F.; Boldman, W. L.; Rack, P. D.; Jiang, L.; Xu, C.; Greaves, G.; Donnelly, S. E.; Wang, L.; Weber, W. J.
Gallagher-Jones, M.; Ophus, C.; Bustillo, K. C.; Boyer, D. R.; Panova, O.; Glynn, C.; Zee, C., -T.; Ciston, J.; Mancia, K. C.; Minor, A. M.; Rodriguez, J. A.
Fu, Z.; Jiang, L.; Wardini, J. L.; MacDonald, B. E.; Wen, H.; Xiong, W.; Zhang, D.; Zhou, Y.; Rupert, T. J.; Chen, W.; Lavernia, E. J.
Tan, S. F.; Bisht, G.; Anand, U.; Bosman, M.; Yong, X. E.; Mirsaidov, U.
Yasin, F. S.; Harvey, T. R.; Chess, J. J.; Pierce, J. S.; Ophus, C.; Ercius, P.; McMorran, B. J.
Gammer, C.; Ophus, C.; Pekin, T. C.; Eckert, J.; Minor, A. M.
DigitalMicrograph,或称为 Gatan Microscopy Suite,驱动您的电子相机和其他附件以支持一系列重要应用,包括断层扫描、原位、谱学和衍射成像等。
Enabling optically-coupled transmission electron microscopy to reveal nanoscale structural, optical, and electronic properties
EDAX Octane Elite SDD 的进展将探测器技术提升至一个全新高度。此系列探测器采用了新型氮化硅 (Si3N4) 窗口,使轻元素检测和低 kV 微区分析中的低能段灵敏度有了显著改善。
EDAX首次推出的商用电子背散射衍射 (EBSD) 检测器,具有极高灵敏度,探测电压能可至 3 kV 。 这种直接检测系统非常适合使用传统 EBSD 系统难以分析的电子束敏感钙钛矿、陶瓷或半导体材料。